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总建筑面积为156211 平方米线宽28纳米及以下大规模数字集成电路制造,0.11微米及以下模拟,数模集成电路制造,MEMS和化合物半导体集成电路制造及BGA,PGA,CSP,MCM等先进封装与测试项目(中芯长电二期) (进展1)

项目描述

项目描述 一项单层至九层高的工业发展,总占地面积为182,082平方米,总建筑面积为156,211平方米,包括: *三幢两层局部三层高的生产厂房 *一幢五层高的研发楼 *一幢三层高的动力厂房 *四幢九层高的公寓楼 *三幢六层高的宿舍楼 *单层高的学废水处理站 *三层高的危险品库库房 项目采用: 钢结构-
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开工日期 登录注册后查看
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跟进记录

更新日期 跟进阶段 跟进沟通细节
2017-08-09 跟进1 登录注册后查看
2017-08-09 跟进1 登录注册后查看

项目详情

工程类型: 登录注册后查看 大型项目 登录注册后查看
项目类别 登录注册后查看
开工日期 ****年**月 竣工日期 ****年**月
建筑面积 156211 平方米 占地面积 暂未确定
预计成本 2.5 亿 建筑层数 登录注册后查看
业主类型 商业 外资参与 登录注册后查看
外墙材料 登录注册后查看 钢结构 登录注册后查看
装修情况 登录注册后查看 电梯情况 登录注册后查看
空调情况 登录注册后查看 供暖方式 登录注册后查看

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