总建筑面积为41717 平方米沈阳拓荆科技有限公司半导体薄膜设备产业化基地(一期)项目 (进展2)
项目描述
| 项目描述 | 项目描述： 一项工业发展,占地面积为52,107平方米,总的建筑面积为41,717平方米,包括: *两幢两层高的厂房 *一幢四层高的办公楼 *一幢一层高的食堂 *一幢三层高的宿舍 项目采用:钢结构 |
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| 项目地址 | 请登录或注册后查看 |
| 开工日期 | 请登录或注册后查看 |
| 竣工日期 | 请登录或注册后查看 |
跟进记录
| 更新日期 | 跟进阶段 | 跟进沟通细节 |
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| 2015-07-09 | 跟进2 | 请登录或注册后查看 |
项目详情
| 工程类型: | 请登录或注册后查看 | 大型项目 | 请登录或注册后查看 |
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| 项目类别 | 请登录或注册后查看 | ||
| 开工日期 | ****年**月 | 竣工日期 | ****年**月 |
| 建筑面积 | 41717 平方米 | 占地面积 | 52107 平方米 |
| 预计成本 | 8000 万 | 建筑层数 | 请登录或注册后查看 |
| 业主类型 | 商业 | 外资参与 | 请登录或注册后查看 |
| 外墙材料 | 请登录或注册后查看 | 钢结构 | 请登录或注册后查看 |
| 装修情况 | 请登录或注册后查看 | 电梯情况 | 请登录或注册后查看 |
| 空调情况 | 请登录或注册后查看 | 供暖方式 | 请登录或注册后查看 |
项目地址
联系人
| 结构工程师 | |
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| 发展商 | |
| 环评单位 | |
| 业主 | |
| 甲方采购负责人 | |
| 甲方设计负责人 | |
| 建筑师 | |
| 设计院 | |
| 给排水工程师 | |
| 电气工程师 |
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| 发布日期 | 标讯类型 | 标讯标题 |
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